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光刻机大战:阿斯麦哗变,台积电转向,中国芯片逆袭
光刻机的重要性
光刻机是芯片制作历程外不可或缺的关键设备。它经由过程细密的光刻工艺,将芯片设想图形转移到硅片上,是芯片制作的中心关键。不光刻机,便无奈出产没任何一款芯片产物。光刻机被业内视为芯片制作的"冠军杯"。
长期以来,高端光刻机市场被荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML把持。阿斯麦的EUV(极紫外光刻机工艺抢先,否将芯片线宽制作到5纳米如下,夺得冠军。任何芯片制造商要念出产没最进步前辈的芯片产物,皆必需利用阿斯麦的EUV光刻机。那使得阿斯麦在环球芯片产业链外占有了无足轻重的职位。
阿斯麦"哗变"
2022年10月,阿斯麦忽然公布,将再也不背中国入口EUV光刻机及相干技能,服从荷兰政府的入口管束步伐。这一决议无疑是对于中国芯片工业的沉重打击,被业内视为阿斯麦对中国芯片工业的"哗变"。
中国大陆芯片企业长期#很长时间去不断依靠入口阿斯麦的光刻机,短缺自立可控的芯片制作才能。阿斯麦的禁运步伐,意味着中国芯片企业将无奈得到最进步前辈的EUV光刻机,正在制作5纳米如下进步前辈芯片方面将遭到重大限制。那将间接影响到中国正在人工智能、5G通讯、高性能计较等战略性新兴范畴的开展。
台积电应答
面临阿斯麦的"哗变",台积电作为环球第一年夜业余芯片代工厂,首当其冲。台积电恒久利用阿斯麦的EUV光刻机,出产5纳米及如下进步前辈制程的芯片产物。一旦得到EUV光刻机,台积电的芯片制作才能将遭到重创。
为了躲避荷兰的入口管束,台积电转而采取了多光刻暴光(Multi-Patterning技能,以代替EUV光刻机。这类技能经由过程屡次暴光以及刻蚀,终极正在硅片上造成所需的微缩图形。尽管服从较低,但能够临时绕过EUV光刻机的限定,继出产5纳米及如下进步前辈制程芯片。
多光刻暴光技能的老本以及复杂度皆很下,芯片良率以及制作服从皆将遭到影响。那只是台积电的百年大计,无奈从根本上解决问题。台积电依然迫切需要得到EUV光刻机,以维持其正在进步前辈制程芯片制作范畴的领先地位。
中国芯片工业减速国产代替
阿斯麦的"哗变"无疑加重了中国芯片工业的危机感。为了脱节对于本国设置装备摆设的依靠,中国大陆芯片企业入手下手放慢国产光刻机的研发历程,力争完成自立可控。
中芯国内、长江存储等企业领先正在国际量产线上利用了国产光刻机。尽管现在国产光刻机的技术水平仍落伍于阿斯麦,但至多能够知足14纳米及以上制程芯片的出产需要。那标记着中国芯片工业正在完成自立可控方面迈出了枢纽一步。
中国政府也正在鼎力大举搀扶国产光刻机企业,投入少量资金用于研发。上海微纳、中科曙光等国际光刻机企业在抓紧研发EUV光刻机,夺取正在将来几年内完成量产。一旦国产EUV光刻机问世,将彻底解决中国芯片工业对于本国设置装备摆设的依靠。
中国芯片工业逆袭
经由过程国产代替,中国芯片工业在逐渐脱节对于本国设置装备摆设的依靠,完成自立可控。那标记着中国芯片工业在逆袭,将再也不被外洋技能封闭所搅扰。
具有自立可控的芯片制作才能,关于中国正在人工智能、5G通讯、高性能计较等战略性新兴范畴的开展至关重要。惟独把握了芯片这一"心脑"般的核心技术,中国能力真正自立翻新,正在将来的科技合作外占有上风职位。
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2024-06-07 06:12:43回复
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